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“流动的痕迹——国际版画艺术展”于中央美术学院美术馆启幕

时间: 2021.10.22

2021年10月20日至11月13日,“流动的痕迹——国际版画艺术展” 在中央美术学院美术馆二层B展厅展出。该展览由中国中央美术学院主办,由中央美术学院美术馆承办,由美国哥伦比亚大学勒罗伊·尼曼版画中心协办。哥伦比亚大学教授托马斯·吴、中央美术学院教授杨宏伟、艺术家刘欣怡共同担任策展人。将展出来自世界各国逾百件艺术作品,参展艺术家(按姓氏首字母排序)包括塞西莉·布朗、方力钧、艾伦·加拉格尔、古元、威廉·肯特里奇、李桦、奇奇·史密斯、苏新平、萨拉·施、里克力·提拉瓦尼、卡拉·沃克、徐冰等。

当我们谈及版画,似乎早已习惯于将版画假定成木版、石版、铜版、丝网版等技法的产物。此次展览,艺术家们将以怀疑者的立场去重新审视、思考与探究版画:

“ 为什么做版画?”

“ 版画于我的意义是什么?”

本次展览是一场针对所有参展艺术家们的发问,所展出的每件作品都是艺术家们对这些发问的直接或间接的作答。有的艺术家从“版”的概念出发,有的从“板”的构造出发,有的从“印”的动作出发,有的从“刻”的姿态出发,有的从“复数”的语言出发,有的从材料的特性出发。有的在叠加,有的在简化。艺术家们多样的国界、背景、年代势必会为提问带来不同质地的回答,这些答案既将版画掷入一个具有社会性意义的语境,又将关于版画的讨论推恿至:

 “ 版画的未来会是什么?”

图、文/主办方提供

展览信息

流动的痕迹——国际版画艺术展

学术主持:徐冰

策展人:托马斯·吴,杨宏伟,刘欣怡

主办:中央美术学院

承办:中央美术学院美术馆

协办:哥伦比亚大学勒罗伊·尼曼版画中心

展览时间:10月20日– 11月13日

展览地点:中央美术学院美术馆2层B展厅

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